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ICS 31.080.99 GE CCS L 59 中华人民共和国国家标准 GB/T 44514—2024/IEC62047-31:2019 微机电系统(MEMS)技术 层状MEMS材料界面黏附能四点弯曲 试验方法 Micro-electromechanical system (MEMS) technology—Four-point bending test method for interfacial adhesion energy of layered MEMS materials (IEC 62047-31: 2019, Semiconductor devices—Micro-electromechanical devicesPart 31 : Four-point bending test method for interfacial adhesion energy of layered MEMS materials, IDT) 2024-09-29 发布 2024-09-29实施 国家市场监督管理总局 发布 国家标准化管理委员会 GB/T 44514—2024/IEC 62047-31:2019 目 次 前言 范围 1 规范性引用文件 2 术语、定义、符号和名称 3.1 术语和定义 符号和名称 3.2 4试验件 4.1 总体要求 试验件的形状 4.2 4.3 尺寸测量 4.4 能量释放率的评价 试验方法和试验装置 5.1 试验原理 5.2 试验设备 5.3 试验程序 5.4 试验环境 6试验报告 附录A(资料性) 四点弯曲试验中的失效模式 A.1 总则 失效模式 A.2 参考文献
GB-T 44514-2024 微机电系统(MEMS)技术 层状MEMS材料界面黏附能四点弯曲试验方法
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